氧化鋁拋光液 MYH-APS80

一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介

氧化鋁拋光液MYH-APS80是高端精密制造核心耗材，通過(guò)“物理研磨+化學(xué)輔助”，去除工件表面損傷層與毛刺，獲得超光滑無(wú)缺陷表面，保障工件精度與性能。

精準(zhǔn)拋光，低損高效。

本品核心為“納米級(jí)拋光”，以納米氧化鋁磨料實(shí)現(xiàn)原子級(jí)修整（Ra達(dá)納米級(jí)），可：

1. 獲得鏡面光潔度，滿足高端裝配需求；

2. 減少表面缺陷，延長(zhǎng)工件壽命；

3. 兼顧效率與低損傷，適配自動(dòng)化量產(chǎn)。

粒度精準(zhǔn)：300-400nm α-氧化鋁磨料，粒徑分布窄，納米級(jí)均勻去除，無(wú)劃痕、光潔度一致。

切削護(hù)材兼顧：莫氏硬度約9級(jí)，高效切削且不劃傷精密脆弱基材。

懸浮穩(wěn)定：專有分散技術(shù)，磨粒不沉淀不團(tuán)聚，輕微搖勻即可使用，保障拋光一致性。

環(huán)保易清洗：水性配方，無(wú)毒無(wú)重金屬，純水可沖凈，無(wú)殘留無(wú)二次污染。

適配性強(qiáng)：弱堿性可調(diào)，不腐蝕多種基材，適配手動(dòng)/自動(dòng)化設(shè)備，可按需調(diào)濃度、pH值。

高效耐用：拋光效率高，廢液過(guò)濾補(bǔ)新液可循環(huán)3-5次，降低使用成本。

本品用于各類精密器件拋光，核心是去損傷、提光潔度、保精度，適用領(lǐng)域：

光通信領(lǐng)域：光纖連接器、光模塊插針、光學(xué)窗口片等低損傷拋光。

半導(dǎo)體與電子領(lǐng)域：硅片、半導(dǎo)體襯底、消費(fèi)電子精密結(jié)構(gòu)件高光拋光。

光學(xué)器件領(lǐng)域：光學(xué)鏡頭、藍(lán)寶石襯底等超光滑拋光，保障透光與成像質(zhì)量。

精密金屬與陶瓷領(lǐng)域：各類合金鏡面拋光、精密陶瓷表面精整。

其他高端領(lǐng)域：寶石、石英制品拋光，航空航天、醫(yī)療器械零部件表面處理。

MYH系列覆蓋全流程：

1. 粗拋液：大粒徑，去粗加工痕跡，適用于前道粗磨。

2. 中拋液：平衡切削與光潔度，消除粗拋痕跡，為精拋鋪墊。

3. 精拋液：小粒徑，降粗糙度，實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)鏡面，適用于中端終拋。

4. 超精拋液如MYH-APS80：納米級(jí)，高端終拋，實(shí)現(xiàn)原子級(jí)鏡面，適配光通信、半導(dǎo)體領(lǐng)域。

溫度：5℃~30℃，防凍（<0℃失效）、防高溫（>35℃變質(zhì)）。

使用前：搖勻5-10分鐘；用去離子水稀釋（按需調(diào)整）。

儲(chǔ)存：密封避光、陰涼干燥存放，直立放置并定期輕搖；未開封保質(zhì)期6個(gè)月，開封后1個(gè)月內(nèi)用完。

操作：滴加供液，避免干磨；佩戴防護(hù)手套、保持通風(fēng)；工件需自來(lái)水+去離子水沖洗后吹干，防水漬。

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