266nm光學元件（如反射鏡、透鏡、物鏡）是半導體晶圓檢測設(shè)備中的關(guān)鍵組件，直接影響檢測精度與系統(tǒng)穩(wěn)定性。
一、核心功能與技術(shù)優(yōu)勢
1.高損傷閾值設(shè)計
266nm屬深紫外（UVC）波段，光子能量高，對光學材料與鍍膜工藝要求嚴苛。優(yōu)質(zhì)反射鏡（如CVI Laser Optics產(chǎn)品）在266nm波長下具備>3 J/cm²（10ns脈沖）的損傷閾值，確保在高功率皮秒激光環(huán)境下長期穩(wěn)定運行 。
2.超高反射率與低吸收損耗
反射鏡采用熔融石英基底（如康寧7980），結(jié)合多層介質(zhì)膜技術(shù)，實現(xiàn)99.6%以上反射率（S偏振光可達99.9%），減少光能損失 。
透鏡與物鏡需采用深紫外級鈣氟化物（CaF₂）或熔融石英材料，降低色散與吸收，保障光束質(zhì)量。
3.精密面形控制
光學元件面型精度達λ/10 @ 633nm，有效抑制波前畸變，滿足高分辨率成像需求，避免因光學像差導致的漏檢或誤檢 。
| 元件類型 | 應(yīng)用環(huán)節(jié) | 客戶價值 |
|---|---|---|
| 266nm反射鏡 | 激光光路轉(zhuǎn)向、共聚焦系統(tǒng) | 提升光路穩(wěn)定性，適配自動化產(chǎn)線同步控制 |
| 深紫外透鏡 | 激光聚焦、信號收集 | 實現(xiàn)微區(qū)照明與高NA收集，增強缺陷散射信號強度 |
| 深紫外物鏡 | 顯微成像、暗場檢測 | 支持0.2μm級缺陷識別，兼容4/6/8寸晶圓檢測平臺 |
