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非索非那定鹽酸鹽干混懸液混合研磨均質(zhì)機

  • 發(fā)布時間:2026-02-06 00:00:00,加入時間:2013年03月04日(距今4741天)
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IKN研磨均質(zhì)機設(shè)計獨特,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。

非索非那定鹽酸鹽干混懸劑主要由:非索非那定鹽酸鹽、填充劑、甜味劑、助懸劑、矯味劑、遮味劑、潤濕劑、檸檬酸緩沖鹽或磷酸緩沖鹽混合均質(zhì)而成,該成品穩(wěn)定性高、流動性好、易于儲存;配制成混懸劑后,吸收迅速,生物利用度高,服用方便,口感良好,穩(wěn)定性高。

針對于研磨均質(zhì)機的選用比較嚴格,第一要速度快,第二要流量大(效率高),第三線速度高,第四立式結(jié)構(gòu)符合GMP標準,第五能夠保證物料100%通過設(shè)備進行研磨均質(zhì)機,第六與物料接觸的部分需316L不銹鋼,內(nèi)表面拋光可以達到醫(yī)藥級的0.4.

上海依肯機械針對這些要求特別推出一款集膠體磨與分散均質(zhì)機于一體的設(shè)備——研磨均質(zhì)機,特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000模塊主要由兩層分散頭構(gòu)成,工作時,物料通過投料口進入分散腔,首先到達層分散頭進行處理,由于馬達帶動轉(zhuǎn)子齒列高速運轉(zhuǎn),產(chǎn)生渦流和離心力效應(yīng)使得物料軸向吸入分散頭,然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用,之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強力剪切間隙中物料被強烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切,接著流出的物料進入第二層分散頭腔體,對處理過的物料再次進行剪切(原理同上),從而確;旌戏稚@得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒,生成的混合液穩(wěn)定性更好,滿足疫苗生產(chǎn)對于粒徑的要求。

IKN研磨均質(zhì)機較其它混合研磨的設(shè)備還有一些突出的特點,如下:

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計理念,將先進的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中,為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供超強切割力

更可靠 采用整體式機械密封,zui大程度上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國際先進的受控切割技術(shù),將纖維類物料粉碎細度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

從設(shè)備角度來分析,影響研磨均質(zhì)效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

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